Round Lab Kiefern-Cica Beruhigungsmaske 10 Stück 1+1
Die Round Lab Pine Calming Cica Mask kombiniert Pine Cica Activer und LHA zur sanften Beruhigung gereizter Haut
Mit Kiefernnadelextrakt, Centella Asiatica und Hyaluronsäure spendet sie intensive Feuchtigkeit und Pflege
Das spezielle Tuch mit Doppelwellen-Struktur schmiegt sich an das Gesicht an und sorgt für Erfrischung
Beschreibung
Eigenschaften
Round Lab Pine Calming Cica Mask enthält Pine Cica Activer, einen einzigartigen beruhigenden Komplex, der aus Kiefernnadeln durch Ultraschallextraktionsverfahren gewonnen wird. Die Formel kombiniert Kiefernnadelextrakt, Centella Asiatica-Extrakt und essenzielle Cica-Wirkstoffe wie Asiatische Säure, Madecasssäure, Madecassosid, Asiaticosid und Glykoprotein. Diese intensive Tuchmaske ist mit einem Double-Wave-Tuch ausgestattet und spendet tiefe Feuchtigkeit sowie kühlende Pflege, um irritierte, empfindliche oder unruhige Haut zu beruhigen. Zudem verwendet das Produkt umweltfreundliche, FSC-zertifizierte Verpackungen, die mit Sojatinte bedruckt sind, um den Waldschutz zu unterstützen.
Vorteile
Diese Maske bietet schnelle, konzentrierte beruhigende Pflege und einen kühlenden Effekt für Haut, die durch tägliche Umweltbelastungen oder die Rasur gereizt ist. Sie schließt Feuchtigkeit effektiv ein und hinterlässt unruhige, müde oder ölige Haut mit Feuchtigkeit versorgt und erfrischt, ohne dass zusätzliche Hautpflegeschritte erforderlich sind.
Hauptinhaltsstoffe und ihre Wirkung
Kiefernnadelextrakt: Wird geerntet und mittels Ultraschallverfahren extrahiert, um empfindlicher Haut eine tiefe, gezielte Beruhigung zu bieten.
Centella Asiatica-Extrakt und Cica-Wirkstoffe: Enthält einen reichhaltigen beruhigenden Komplex aus Madecassosid, Asiaticosid, Asiatischer Säure und Madecasssäure, um unruhige und reaktive Haut sanft zu pflegen.
LHA (Capryloyl-Salicylsäure): Unterstützt sanft die Glättung der Haut und die Pflege bei Hautbedürfnissen.
Hyaluronsäure-Komplex: Enthält Hyaluronsäure, hydrolysierte Hyaluronsäure und Natriumhyaluronat, um die Haut tiefenwirksam mit reichlich Feuchtigkeit zu versorgen.
Zertifizierungen und Auszeichnungen
Round Lab Pine Calming Cica Mask ist von der Korea Agency of Vegan Certification and Services als vegan zertifiziert. Das Tuchmaterial ist nach dem OEKO-TEX Standard 100 (Produktklasse I) zertifiziert, was bestätigt, dass es die humanökologischen Anforderungen an die Textilsicherheit erfüllt. Die Verpackung wird aus FSC-zertifiziertem Papier und Sojatinte hergestellt.
Klinische Testergebnisse
In Hautirritationstests, die vom Korea Dermatological Research Institute durchgeführt wurden, erzielte das Produkt einen durchschnittlichen Hautreaktionswert von 0,00 und wurde als nicht reizend eingestuft. Zudem erhielt es im primären Hautirritationstest des deutschen Instituts Dermatest die Note „Sehr gut“.
Weitere Informationen
| Marke | Round Lab |
|---|---|
| Produktkategorie | Sheet Mask |
| Haltbarkeit | 12 months after opening |
| Inhaltsstoffe |
Aqua, Glycerin, Dipropylene Glycol, Glycereth-26, Hyaluronic Acid, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Sodium Hyaluronate, Butylene Glycol, Portulaca Oleracea Extract, Pinus Sylvestris Leaf Extract (1,010ppm), Propanediol, Chondrus Crispus, Ethylhexylglycerin, Centella Asiatica Extract (20.3ppm), Biosaccharide Gum-1, Ammonium Polyacryloyldimethyl Taurate, Tromethamine, Polyglyceryl-4 Caprate, Glycoproteins (0.202ppm), Polyglyceryl-6 Caprylate, Capryloyl Salicylic Acid, Hydroxyethylcellulose, Asiaticoside (0.0101ppm), Asiatic Acid (0.0101ppm), Madecassoside (0.0101ppm), Madecassic Acid (0.0101ppm), 1,2-Hexanediol, Hydroxyacetophenone, Disodium EDTA, Xanthan Gum, Carbomer
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| Herkunftsland | Südkorea |
| Produkt-Highlights | Beruhigend, Feuchtigkeitsspendend, Gute Haftung, Hautbildverfeinernd, Hypoallergen |
| Hersteller | Cosmecca Korea |