SKIN1004 Leite de Limpeza Suave Hyalu-Cica 200ml + Espuma de Ampola de Centella 125ml + Esponja de Limpeza Facial
O SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Gentle Cleansing Milk contém uma base de essência a 63% que remove a maquilhagem e impurezas enquanto preserva a hidratação da pele
A fórmula com extrato de Centella Asiática, pantenol e beta-glucano acalma a pele sensível e protege a barreira de hidratação com um pH suave
Este produto utiliza tecnologia micelar inversa patenteada para facilitar a absorção do ácido hialurónico, deixando a pele macia e refrescada
Descrição
Características
O SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Gentle Cleansing Milk é um produto de limpeza de baixa irritação, concebido para proteger a barreira de hidratação da pele enquanto remove eficazmente a maquilhagem e as impurezas. Formulado com uma base de essência rica em humidade (teor de 63%), deixa a pele hidratada e sem sensação de repuxamento após a lavagem. O produto utiliza a tecnologia patenteada Reverse Micellar, que encapsula o ácido hialurónico em partículas mais pequenas do que os lipossomas tradicionais, permitindo uma absorção mais profunda e eficaz na pele.
A Madagascar Centella Ampoule Foam proporciona uma experiência de limpeza suave e ligeiramente ácida. Apresenta uma textura cremosa e densa que se transforma numa espuma rica para remover impurezas e sebo. É formulada com pó de soda para uma poderosa adsorção nos poros e tensioativos naturais derivados do coco para garantir um acabamento hidratante e não agressivo.
Benefícios
Ambos os produtos foram concebidos para manter a saúde natural da pele, respeitando o seu equilíbrio de pH. O Gentle Cleansing Milk fortalece a barreira de hidratação da pele, prevenindo a perda de humidade e mantendo o equilíbrio óleo-água. É eficaz na remoção de maquilhagem de base, protetor solar e poeiras ultrafinas, sendo suficientemente suave para peles sensíveis e áreas delicadas dos olhos.
A Ampoule Foam foi especificamente concebida para proporcionar um cuidado calmante através dos seus ingredientes de ampola característicos. Limpa eficazmente os poros e remove 92,69% das partículas de poeira ultrafinas numa única utilização, ajudando a equilibrar a camada protetora da pele.
Principais ingredientes e os seus efeitos
Extrato de Centella Asiatica: Proveniente de Madagáscar, este ingrediente exclusivo proporciona um cuidado calmante potente para apaziguar a pele sensível e fortalecer a base natural da pele.
Ectoína: Um ingrediente protetor descoberto em ambientes extremos, que proporciona uma hidratação profunda à pele.
Ácido Hialurónico: Essencial para a retenção de humidade, é entregue profundamente na pele através de tecnologia micelar avançada para garantir uma hidratação duradoura.
Pantenol e Beta-Glucano: Estes ingredientes atuam em conjunto para acalmar a pele irritada e manter um nível de hidratação saudável, protegendo a pele de fatores de stress ambientais externos.
Ceramidas e Péptidos de Proteína Vegetal: Incluídos no leite de limpeza para reforçar a barreira de hidratação da pele e promover uma suavidade duradoura.
Resultados de testes clínicos
O Madagascar Centella Hyalu-Cica Gentle Cleansing Milk foi submetido a várias avaliações clínicas. Os resultados mostraram uma melhoria de 31,63% na hidratação profunda da pele (21 mulheres adultas). Testes adicionais confirmaram a eficácia na limpeza de maquilhagem, protetor solar e poeiras ultrafinas. Em relação ao reforço da barreira, os testes mostraram uma melhoria de 20,48% na perda de água transepidérmica e uma melhoria de 43,42% no teor de humidade da pele após duas semanas de utilização. O produto também passou em testes de irritação ocular e de irritação primária em peles sensíveis.
A Madagascar Centella Ampoule Foam demonstrou uma eficácia de limpeza de 92,69% contra simulantes de poeira ultrafina numa única utilização (23 adultos) e completou os testes de irritação cutânea.
Instruções de utilização
Para o Gentle Cleansing Milk, aplique uma quantidade adequada no rosto e pescoço secos. Massaje suavemente o produto na pele para dissolver a maquilhagem e as impurezas, depois enxague abundantemente com água morna. Para maquilhagem pesada, recomenda-se uma segunda limpeza.
Para a Ampoule Foam, dispense uma quantidade adequada e crie uma espuma rica com água. Massaje suavemente sobre todo o rosto e enxague abundantemente com água morna.
Mais informações
| Marca | SKIN1004 |
|---|---|
| Tipo de cosmético | Cleanser |
| Validade | 12 months after opening |
| Ingredientes |
Água, Estearato de Etilexila, Palmitato de Etilexila, Propanodiol, Éter Dicaprilílico, Estearato de Poliglicerila-6, Glicerina, Metilpropanodiol, Pentilenoglicol, 1,2-Hexanodiol, Pantenol, Crospolímero-6 de Poliacrilato, Crospolímero de Acrilatos/C10-30 Alquil Acrilato, Extrato de Centella Asiatica, Beenato de Poliglicerila-6, Extrato da Flor de Musa Sapientum (Banana), Água da Flor de Rosa Damascena, Butilenoglicol, Alantoína, Ectoína, Goma Xantana, Extrato de Pyrus Communis (Pera), Dilauramidoglutamida Lisina Sódica, Extrato de Prunus Domestica (Ameixa), Tocoferol, Etilhexilglicerina, Extrato de Eclipta Prostrata, Aminometilpropanodiol, Ácido Cítrico, Extrato da Folha/Caule de Hedera Helix (Hera), Fitato de Sódio, Fermento de Candida Bombicola/Glicose/Metil Colza, Extrato de Cynanchum Atratum, Óleo da Semente de Macadamia Ternifolia, Extrato de Althaea Rosea, Proteína Vegetal Hidrolisada, Maltodextrina, Aminoácidos de Maçã e Cocoil Sódico, Hialuronato de Sódio Hidrolisado, Óleo da Semente de Moringa Oleifera, Beta-Glucano, Hexilenoglicol, Ceramida NP, Fitoesfingosina, Lecitina Hidrogenada, Diacetato de Glutamato Tetrassódico
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| País de origem | Coreia do Sul |
| Destaques do produto | Hidratante, Levemente ácido (pH equilibrado), Poder de limpeza, Remoção de impurezas, Suave |